產品介紹
CVD管式爐由開啟式單(雙)溫區管式爐、高真空分子泵系統、壓強控制儀及多通道高精度數字質量流量控制系統組成。可實現高真空狀態下、混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。
CVD管式爐主要用于高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結等場所。
CVD管式爐是在高溫條件下通過一定的化學反應將物質轉化成固態薄膜的一種重要設備。
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
CVD設備廠區實拍
pecvd設備實拍
CVD設備
CVD管式爐的工作原理
CVD管式爐在高溫條件下通過一定的化學反應將物質轉化成固態薄膜。具體過程如下：在高溫下，氣態物質經過化學反應生成固態物質，并在基材表面沉積。這個過程可以通過調節溫度、氣氛和時間等參數來控制薄膜的生長和性質。
CVD管式爐的應用領域
材料科學研究：
CVD管式爐可用于合成各種高質量、高性能的材料，如半導體材料、超導材料、陶瓷材料等。
能源領域：
CVD管式爐可用于制造太陽能電池、燃料電池等新能源器件。
電子領域：
CVD管式爐可用于制造各種電子器件，如半導體器件、集成電路等。
國防領域：
CVD管式爐可用于制造各種高性能的合金材料和復合材料，用于制造國防裝備和武器。
CVD管式爐是一種重要的實驗設備，在材料科學、能源、電子、國防等領域有著廣泛的應用。它具有高溫、高壓環境、高質量薄膜、多樣的化學反應、自動化控制、高安全性等特點。
設備應用
針對材料的高溫燒結工藝保證耐熱及絕緣性可靠性設計，新型電極結構避免了高溫爐電極漏水現象，并且加熱系統中的易損部件更便于維修和更換。
耐熱性高
安全性好
維修高效
CVD管式爐（氣相沉積爐）主要用于
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硬質合金
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陶瓷（氧化鋯陶瓷、氧化鋁陶瓷等）
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磁性材料
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粉末材料
技術參數
產品名稱 | CVD化學氣相沉積系統 |
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產品型號 | BR-CVD/PECVD |
滑道 | 帶滑道，可滑動爐膛，實現快速升溫或冷卻功能 |
加熱區長度 | 400mm 單溫區/雙溫區 |
爐管尺寸 | 直徑60x1200mm 外徑x長 |
爐管材質 | 高純石英管 |
工作溫度 | ≤1100℃ |
溫控系統 | 人工智能PID儀表，自動控制溫度 |
溫控精度 | ±1℃ (具有超溫及斷偶報警功能) |
加熱速率 | 建議 0~10℃/min |
加熱元件 | 高品質電阻絲 |
量計，雙卡套不銹鋼接頭，316L耐腐蝕材料
